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碳化硅薄膜在低輻射鍍膜玻璃中的應用

2018.06.10

1、現狀

  近年來,在可鋼化low-e玻璃(大板膜玻)在我國得到一定的推廣,但是整體質量并不夠高,因為現有的low-e玻璃抗機械劃傷性能不夠高,抗高溫氧化能力還不夠強,高性能產品成本很高,因此解決上述問題已經迫在眉睫。

  在大面積鍍膜領域,SiNx介質層膜的應用越來越廣泛。SiNx具有較好的抗腐蝕、抗機械劃傷的、抗高溫氧化能力。因此SiNx作為外層保護層來使用,目前出現的可鋼化low-e玻璃的外層也是用的SiNx材料??射摶痩ow-e玻璃投入市場使得low-e玻璃的應用得到了很大范圍的推廣。但是low-e玻璃在民用建筑領域使用的還是不夠廣泛,其重要的問題就是成本較高。降低low-e玻璃的成本將成為普及low-e玻璃的重要議題,也將成為各大玻璃加工企業熱門的話題。Low-e玻璃成本的主要是由于生產成本太高,解決生產成本的有效的途徑是提高生產效率。在目前大多數企業是提高玻璃在鍍膜機中的走速、提高濺射靶材的功率來提高效率降低成本的。在保證low-e玻璃膜層厚度的時候,玻璃的走速越快與之對應的濺射靶材功率將越高。在low-e玻璃膜層中介質層SiNx的厚度很厚。隨著硅鋁靶的功率提高,掉渣問題會越來越嚴重。其根本原因受到硅鋁靶濺射速率的限制。

  2、碳化硅材料的介紹

  碳化硅(SiC)是用石英砂、石油焦(或煤焦)、木屑為原料通過電阻爐高溫冶煉而成。碳化硅在大自然也存在罕見的礦物,莫桑石。碳化硅又稱碳硅石。在當代C、N、B等非氧化物高技術耐火原料中,碳化硅為應用廣泛、經濟的一種??梢苑Q為金鋼砂或耐火砂。碳化硅是用石英砂、石油焦(或煤焦)、木屑(生產綠色碳化硅時需要加食鹽)等原料在電阻爐內經高溫冶煉而成。碳化硅晶體結構分為六方或菱面體的α-SiC和立方體的β-SiC(稱立方碳化硅)。α-SiC由于其晶體結構中碳和硅原子的堆垛序列不同而構成許多不同變體,已發現70余種。β-SiC于2100℃以上時轉變為α-SiC。碳化硅的硬度很大,莫氏硬度為9.5級,僅次于世界上硬的金剛石(10級),具有優良的導熱性能,是一種半導體,高溫時能抗氧化。

-轉自中國玻璃網

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